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NPE-3000那诺-马斯特沉积系统 其他资料
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那诺-马斯特NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统物理气相沉积(PVD) 其他资料
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那诺-马斯特物理气相沉积(PVD)NSC-1000 磁控溅射系统 Sputter 磁控溅射镀膜
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物理气相沉积(PVD)那诺-马斯特 NSC-4000 (A) Sputter 磁控溅射镀膜
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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NSC-3000 (M)物理气相沉积(PVD)那诺-马斯特 Sputter 磁控溅射镀膜
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那诺-马斯特NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统物理气相沉积(PVD) Sputter 磁控溅射镀膜
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沉积系统牛津仪器
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,其中包含等离子体选项。它可以轻松升级为等离子体ALD,实现在一个紧凑的设备中结合等离子体和热ALD。这款紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备
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那诺-马斯特NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统 应用于电子/半导体
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那诺-马斯特物理气相沉积(PVD)NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统 应用于电子/半导体
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